Sdílet Sdílet Sdílet

Optimization of ion-atomic beam source for deposition of GaN ultrathin films

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS

MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; VOBORNÝ, S.; BARTOŠÍK, M.; ŠIKOLA, T., 2014: Optimization of ion-atomic beam source for deposition of GaN ultrathin films. REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 85(8), p. 083302-1 - 5, doi: 10.1063/1.4892800; FULL TEXT

Výzkumné skupiny:

• Příprava a charakterizace nanostruktur

CEITEC autoři:

• Ing. Jakub Zlámal, Ph.D.
• prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc.
• doc. Ing. Jindřich Mach, Ph.D.
• Ing. Stanislav Voborný, Ph.D.
• Doc. Ing. Miroslav Bartošík, Ph.D.
• doc. Ing. Miroslav Kolíbal, Ph.D.
• Ing. Mgr. Tomáš Šamořil, Ph.D.